Andika, Yudhistira Surya (2017) Pengaruh Waktu Deposisi dan Tekanan Gas Argon Proses PVD RF Sputtering pada Silver Thin Film untuk Aplikasi Antimicrobial Coating pada Orthopedic Devices. Undergraduate thesis, Institut Teknologi Sepuluh Nopember.
Preview |
Text
2713100101-Undergraduate_Theses.pdf - Published Version Download (8MB) | Preview |
Abstract
Dalam implantasi benda asing kedalam tubuh, terdapat resiko besar yaitu foreign body related infections (FBRIs). Hal ini disebabkan oleh adhesi bakteri pada permukaan implan hingga berkoloni membentuk biofilm yang menyebabkan infeksi. Walaupun berbagai tahapan medis dalam sterilisasi alat medis telah dilakukan, kasus FBRIs masih sering terjadi. Salah satu yang dapat aplikasikan untuk mencegah terjadinya infeksi adalah dengan antimicrobial coating. Implementasi perak (Ag) pada permukaan merupakan salah satu yang paling berkembang pesat dalam riset lapisan antimikroba. Pada riset ini dilakukan deposit logam Ag pada permukaan substrat baja tahan karat tipe 316L. Deposisi logam Ag menggunakan metode Physical Vapor Deposition:Radio Frequency Sputtering (PVD RF Sputtering untuk menghasilkan silver thin film. Lapisan tersebut dideposisi dengan variable waktu deposisi selama 10, 15, 20 menit dan tekanan gas argon (Ar) sebesar 3x10-2, 4x10-2, 5x10-2 mbar. Pengujian yang dilakukan dalam penelitian ini meliputi SEM-EDX, AFM, Kirby Bauer Test, dan Rockwell C Indentation Test. Peningkatan waktu deposisi beserta tekanan gas argon dalam proses PVD meningkatkan kandungan Ag pada permukaan dengan nilai tertinggi sebesar 97.55 wt% pada tekanan 5x10-2 mbar dengan waktu 15 menit. Berdasarkan hasil pengujian, semakin tinggi waktu serta tekanan gas argon akan menghasilkan kandungan Ag yang semakin tinggi. Semakin tinggi waktu akan menghasilkan menaikkan sedangkan tekanan akan menurunkan kekasaran permukaan. Pada pengujian Kirby Bauer Test terbukti bahwa seluruh sampel memiliki sifat antimikroba dan pada indentasi Rockwell C secara kualitatif menghasilkan silver thin film dengan adhesi yang baik. Hasil tersebut menunjukkan bahwa silver thin film memiliki potensi besar sebagai antimicrobial coating.
========================================================================================================================
In foreign object implantation into the body, there’s a huge risk called foreign body related infection (FBRIs). It’s due to the bacterial adhesion on the implant surface and colonized to form biofilm resulting infection. Although several medical sterilization steps has been performed, FBRIs case still happened. One of the technology used to prevent infection is antimicrobial coating. Silver implementation on the surface is one of the rapidly growing research in terms of antimicrobial coating. In this research, silver were deposited on the surface of 316 L stainless steel substrate. Silver metal were deposited using Physical Vapor Deposition:Radio Frequency Sputtering (PVD RF Sputtering) method to fabricate silver thin film. These coatings were deposited with different deposition time variables for 10, 15, 20 minutes and argon gas pressure variables 3x10-2, 4x10-2, 5x10-2 mbar. In this research, the material were tested using SEM-EDX, AFM, Kirby Bauer Test, and Rockwell C Indentation Test. Time deposition and argon gas pressure increase in PVD process resulting thicker coating and higher silver content on the surface with highest value 97.55 wt% in 5x10-2 mbar of argon pressure with 15 minutes of deposition time. Longer deposition time increase surface roughness while higher argon pressure decrease surface rougness. Kirby-Bauer Test proved that all the samples were contain antimicrobial properties and qualitatively using Rockwell C Indentation shows good adhesion of silver thin film. These result shows that silver thin film has a huge potential as antimicrobial coating.
| Item Type: | Thesis (Undergraduate) |
|---|---|
| Uncontrolled Keywords: | silver thin film, antimicrobial coating, implant, PVD |
| Subjects: | Q Science > QR Microbiology T Technology > T Technology (General) T Technology > TP Chemical technology |
| Divisions: | Faculty of Industrial Technology > Material & Metallurgical Engineering > 28201-(S1) Undergraduate Thesis |
| Depositing User: | Yudhistira Surya Andika K |
| Date Deposited: | 06 Sep 2017 07:55 |
| Last Modified: | 05 Mar 2019 07:08 |
| URI: | http://repository.its.ac.id/id/eprint/42977 |
Actions (login required)
 |
View Item |