Pengaruh Implantasi Ion Nikel Dan Tembaga Terhadap Keamorfan Dan Kekerasan Bahan Gelas Metalik Berbasis Zirkonium

Munawaroh, Fatimatul (2007) Pengaruh Implantasi Ion Nikel Dan Tembaga Terhadap Keamorfan Dan Kekerasan Bahan Gelas Metalik Berbasis Zirkonium. Other thesis, Institut Teknologi Sepuluh Nopember.

Text 1103100013-Undergraduate_Thesis.pdf Download (7MB)

Abstract

Telah dilakukan implantasi ion Ni pada Zr65Cu25A l / o dan Cu pada Zr7oNi2oAlio untuk mengetahui keamorfan dan kekerasan. Implantasi dilakukan pada dosis ion 0 , 5964xl 016 ion/cm 2- 2, 982x 1016 ion/cm2 dan energi 100 keV. Analisis perubahan keamorfan dilakukan menggunakan pola difraksi sinar X\ uji kekerasan menggunakan microhardness Tester dan karakterisasi termal menggunakan DSC ( Deferensial Scanning Calorimetry ). Berdasar analisis pola difraksi Implantasi ion Ni dan ion Cu dengan dosis ion yang meningkat mengakibatkan penurunan dan peningkatan fasa amorfrrya yang ditunjukkan dengan adanya penurunan dan peningkatan intensitas latar pada pola difraksi Sinar X. Basil uji kekerasan menunjukkan semakin besar dosis semakin tinggi nilai kekerasannya. Dan hasil DSC menunjukkan terjadina pergeseran nilai Tg dan Tx bahan ZrCuAl setelah diimplantasi ion Ni pada dosis 2, 982x 1016 ion/cm2 yaitu dari 398, 6°C ke 281, 02°C untuk nilai Tg dan dari 446,5°C ke 435, 9^C untuk nilai Tx .
============================================================================================================================
Implantation of Nickel ion onto Zr65Cu25Alw and Copper ion onto Zr70Ni2oAlio has been carried out to observe the amorphization and hardness properties. Implantation has been done at ion doses from 0,5964x1016 ion/cm -2,982x1016 ion/cm2 and at energy 100 keV. Analysis of the amorphization was done using X-rays diffraction pattern (XRD), hardness testing using microhardness tester Diferensial Scanning Calorimetry (DSC). Based on X-rays diffraction pattern analysis, ion Ni and Cu implanted with ion doses increase result decrease and increase its fase amorph that showed decrease and increase background intensities of X-rays diffraction pattern. The result microhardness test showed that the hardness properties increase with accumulation of ion dose. And the result of DSC showed that created moving up value of Tg and Tx at Zr65Cu25Aljo was implanted ion Nickel at dose 2,982xl 016 ion/cm2 from 3980C to 281,02°C for Tg value and from 446,5°C to 435,9^C for Tx value.

Item Type:	Thesis (Other)
Additional Information:	RSFi 539.722 2 Mun p 2007
Uncontrolled Keywords:	gelas metalik, implantasi ion, keamorfan, kekerasan, metallic glass, ion implantation, amorphization, hardness
Subjects:	Q Science > QC Physics
Divisions:	Faculty of Science and Data Analytics (SCIENTICS) > Physics > 45201-(S1) Undergraduate Thesis
Depositing User:	Anis Wulandari
Date Deposited:	14 Nov 2022 07:22
Last Modified:	14 Nov 2022 07:22
URI:	http://repository.its.ac.id/id/eprint/95091

Actions (login required)

View Item