Pecvd Sistem Permasalahan Dan Penyelesaiannya

Dessyntya, Rizky Mayang (2012) Pecvd Sistem Permasalahan Dan Penyelesaiannya. Other thesis, Institut Teknologi Sepuluh Nopember.

Text 1107100018-Undergraduate_thesis.pdf Restricted to Repository staff only Download (44MB) | Request a copy

Abstract

PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) merupakan teknik penumbuhan film lapisan tipis menggunakan reaksi kimiawi pada saat pendeposisian dan merupakan pengembangan dari teknik sebelumnya, yakni CVD. Rangka PECVD terdiri dari komponen-komponen yang saling bertautan. Permasalahan pada PECVD yang terjadi di laboratorium sel surya adalah tidak munculnya plasma karena ruang chamber yang kotor dan nilai daya RF reflected yang besar, tekanan pada chamber 3 yang terlalu tinggi dan putaran turbo pump chamber 4 yang kecil. Penyelesaian untuk masing-masing masalah adalah pembersihan chamber, pemberian dummy load pada daya RF reflected, pengencangan baut pada chambar 3 dan pemeriksaan kabel daya untuk masalah yang ada pada chamber 4 serta penggantian kabel daya agar daya yang hilang dapat dikembalikan.

Item Type:	Thesis (Other)
Additional Information:	RSFi 660.044 Des p
Uncontrolled Keywords:	rrangka PECVD; permasalahan pada PECVD; penyelesaian PECVD
Subjects:	T Technology > TS Manufactures > TS695 Physical/Chemical vapor deposition
Divisions:	Faculty of Mathematics and Science > Physics > 45201-(S1) Undergraduate Thesis
Depositing User:	magang .
Date Deposited:	16 Oct 2026 01:51
Last Modified:	16 Oct 2026 01:51
URI:	http://repository.its.ac.id/id/eprint/145633

Actions (login required)

View Item