Items where Subject is "T Technology > TS Manufactures > TS695 Physical/Chemical vapor deposition"

Up a level
Export as [feed] Atom [feed] RSS 1.0 [feed] RSS 2.0
Group by: Creators | Item Type
Jump to: A | S | W
Number of items at this level: 3.

A

Assa, Muhammad Hawary (2018) Analisis Pengaruh Variasi Waktu Deposisi pada Lapisan Tipis Ag yang Dideposisikan Di Permukaan Substrat Ti6Al4V terhadap Sifat Anti-Microbial dengan Proses PVD RF Sputtering. Undergraduate thesis, Institut Teknologi Sepuluh Nopember.

S

Saputra, Airlangga Eka (2018) Analisis Pengaruh Perbandingan Luas Area Mosaik Target Pada Proses PVD Terhadap Morfologi, Sifat Mekanik Dan Antimicrobial Lapisan Tipis Ag-TiO2. Undergraduate thesis, Institut Teknologi Sepuluh Nopember.

W

Wardani, Pradita Kusumah (2018) Analisis Pengaruh Waktu Deposisi Pada Proses PVD Terhadap Morfologi, Sifat Mekanik, Dan Antimicrobial Dari Lapisan Tipis Ag-TiO2. Undergraduate thesis, Institut Teknologi Sepuluh Nopember.

This list was generated on Tue Aug 4 09:23:16 2020 WIB.