Items where Subject is "T Technology > TS Manufactures > TS695 Physical/Chemical vapor deposition"

Up a level
Export as [feed] Atom [feed] RSS 1.0 [feed] RSS 2.0
Group by: Creators | Item Type
Jump to: A | K | M | R | S | W
Number of items at this level: 6.

A

Assa, Muhammad Hawary (2018) Analisis Pengaruh Variasi Waktu Deposisi pada Lapisan Tipis Ag yang Dideposisikan Di Permukaan Substrat Ti6Al4V terhadap Sifat Anti-Microbial dengan Proses PVD RF Sputtering. Undergraduate thesis, Institut Teknologi Sepuluh Nopember.

K

Kusuma, Yoga Pradipta Angga (2020) REVIEW PENGARUH PARAMETER PROSES DEPOSISI HYDROXYAPATITE DENGAN METODE PVD RF SPUTTERING TERHADAP SIFAT LAPISAN TIPIS UNTUK APLIKASI ORTHOPAEDIC IMPLANT. Undergraduate thesis, Institut Teknologi Sepuluh Nopember.

M

Moh. Arif Batutah, Batutah (2020) KESETIMBANGAN UAP –CAIR SISTEM ALKOHOL – GLISEROL SEBAGAI SALAH SATU DATA UNTUK PEMURNIAN GLISEROL HASIL PRODUK SAMPING INDUSTRI BIODIESEL. Doctoral thesis, Institut Teknologi Sepuluh Nopember.

R

Rahman, Rizki Aulia and Kurniawan, Didik Agus (2014) Pengukuran Kesetimbangan Uap-Cair Sistem Biner Etanol + 2-Butanol Dan Aseton + 2-Butanol, Serta Sistem Terner Etanol + Aseton + 2-Butanol Pada Tekanan 101.33 Kpa. Undergraduate thesis, Institut Teknologi Sepuluh Nopember Surabaya.

S

Saputra, Airlangga Eka (2018) Analisis Pengaruh Perbandingan Luas Area Mosaik Target Pada Proses PVD Terhadap Morfologi, Sifat Mekanik Dan Antimicrobial Lapisan Tipis Ag-TiO2. Undergraduate thesis, Institut Teknologi Sepuluh Nopember.

W

Wardani, Pradita Kusumah (2018) Analisis Pengaruh Waktu Deposisi Pada Proses PVD Terhadap Morfologi, Sifat Mekanik, Dan Antimicrobial Dari Lapisan Tipis Ag-TiO2. Undergraduate thesis, Institut Teknologi Sepuluh Nopember.

This list was generated on Mon Jan 25 20:41:17 2021 WIB.