Items where Subject is "TS695 Physical/Chemical vapor deposition"

A

Altama, Alfreda Krisna (2021) Langmuir Probe Study of Plasma Properties In HiPIMS Discharge For High Aspect-Ratio Metallic Nanotube Arrays (MeNTAs) Fabrication. Masters thesis, Institut Teknologi Sepuluh Nopember.

Assa, Muhammad Hawary (2018) Analisis Pengaruh Variasi Waktu Deposisi pada Lapisan Tipis Ag yang Dideposisikan Di Permukaan Substrat Ti6Al4V terhadap Sifat Anti-Microbial dengan Proses PVD RF Sputtering. Undergraduate thesis, Institut Teknologi Sepuluh Nopember.

K

Kusuma, Yoga Pradipta Angga (2020) REVIEW PENGARUH PARAMETER PROSES DEPOSISI HYDROXYAPATITE DENGAN METODE PVD RF SPUTTERING TERHADAP SIFAT LAPISAN TIPIS UNTUK APLIKASI ORTHOPAEDIC IMPLANT. Other thesis, Institut Teknologi Sepuluh Nopember.

M

Moh. Arif Batutah, Batutah (2020) KESETIMBANGAN UAP –CAIR SISTEM ALKOHOL – GLISEROL SEBAGAI SALAH SATU DATA UNTUK PEMURNIAN GLISEROL HASIL PRODUK SAMPING INDUSTRI BIODIESEL. Doctoral thesis, Institut Teknologi Sepuluh Nopember.

R

Rahman, Rizki Aulia and Kurniawan, Didik Agus (2014) Pengukuran Kesetimbangan Uap-Cair Sistem Biner Etanol + 2-Butanol Dan Aseton + 2-Butanol, Serta Sistem Terner Etanol + Aseton + 2-Butanol Pada Tekanan 101.33 Kpa. Undergraduate thesis, Institut Teknologi Sepuluh Nopember Surabaya.

S

Saputra, Airlangga Eka (2018) Analisis Pengaruh Perbandingan Luas Area Mosaik Target Pada Proses PVD Terhadap Morfologi, Sifat Mekanik Dan Antimicrobial Lapisan Tipis Ag-TiO2. Undergraduate thesis, Institut Teknologi Sepuluh Nopember.

W

Wardani, Pradita Kusumah (2018) Analisis Pengaruh Waktu Deposisi Pada Proses PVD Terhadap Morfologi, Sifat Mekanik, Dan Antimicrobial Dari Lapisan Tipis Ag-TiO2. Undergraduate thesis, Institut Teknologi Sepuluh Nopember.