Analisis Pengaruh Variasi Waktu Deposisi pada Lapisan Tipis Ag yang Dideposisikan Di Permukaan Substrat Ti6Al4V terhadap Sifat Anti-Microbial dengan Proses PVD RF Sputtering

Assa, Muhammad Hawary (2018) Analisis Pengaruh Variasi Waktu Deposisi pada Lapisan Tipis Ag yang Dideposisikan Di Permukaan Substrat Ti6Al4V terhadap Sifat Anti-Microbial dengan Proses PVD RF Sputtering. Undergraduate thesis, Institut Teknologi Sepuluh Nopember.

[img] Text
02511440000105-Undergraduate_Thesis.pdf - Published Version
Restricted to Repository staff only

Download (5MB) | Request a copy

Abstract

Dalam implantasi benda asing kedalam tubuh, terdapat resiko besar yaitu foreign body related infections (FBRIs). Hal ini disebabkan oleh adhesi bakteri pada permukaan implan hingga berkoloni membentuk biofilm yang menyebabkan infeksi. Komplikasi tersering yang terjadi dalam implan dental adalah kegagalan dari sistem implan dental yang dini. Salah satu yang dapat aplikasikan untuk mencegah terjadinya infeksi adalah dengan antimicrobial coating. Implementasi perak (Ag) pada permukaan merupakan salah satu yang paling berkembang pesat dalam riset lapisan antimikroba. Pada riset ini dilakukan deposit logam Ag pada permukaan substrat Titanium paduan Ti-6Al-4V. Deposisi logam Ag menggunakan metode Physical Vapor Deposition:Radio Frequency Sputtering (PVD RF Sputtering) untuk menghasilkan silver thin film. Lapisan tersebut dideposisi dengan variable waktu deposisi selama 10, 15, 20 dan 25 menit. Pengujian yang dilakukan dalam penelitian ini meliputi Antimicrobial test, XRD, SEM-EDX, AFM, dan Rockwell C Indentation Test. Peningkatan waktu deposisi dalam proses PVD meningkatkan kandungan Ag pada permukaan dengan nilai tertinggi sebesar 97.12 wt% dengan waktu 25 menit. Berdasarkan hasil pengujian, semakin tinggi waktu deposisi akan menghasilkan kandungan Ag yang semakin tinggi. Semakin tinggi waktu akan menaikkan kekasaran permukaan. Pada pengujian Antimicrobial Test terbukti bahwa seluruh sampel dengan lapisan tipis Ag memiliki sifat antimikrobial dan semakin tinggi waktu deposisi akan menaikkan zona inhibisi. Pada indentasi Rockwell C secara kualitatif menghasilkan silver thin film dengan adhesi yang kurang baik. ============ In foreign body implantation into the body, there is a big risk of foreign body related infections (FBRIs). This is caused by the adhesion of bacteria on the surface of the implant until it colonizes to form the biofilm that causes the infection. The most common complication that occurs in dental implants is the failure of early dental implant systems. One that can be applied to prevent the occurrence of infection is with antimicrobial coating. Implementation of silver (Ag) on the surface is one of the most rapidly growing in antimicrobial coating research. In this research, Ag metal deposits on the surface of Titanium Ti-6Al-4V alloy substrates. Deposition of metal Ag using Physical Vapor Deposition method: Radio Frequency Sputtering (PVD RF Sputtering) to produce silver thin film. Deposition on layer with variable time of deposition for 10, 15, 20 minute and 25 minutes Testing in this research include Antimicrobial test, XRD, SEM-EDX, AFM, and Rockwell C Indentation Test. Increased deposition time in the PVD process increases the Ag content on the surface with the highest value of 97.12 wt% with a time of 25 min. Based on the test results, the higher the time deposition will produce the Ag the highre. Higher time deposition will increased the roughness of the surface. At testing Antimicrobial Test proves that all samples with a thin layer of Ag have antimicrobial properties and the higher time deposition will increase the inhibition zone. In the Rockwell C indentation qualitatively produce silver thin film with the poor adhesion.

Item Type: Thesis (Undergraduate)
Uncontrolled Keywords: silver thin film; antimicrobial coating; implant; PVD
Subjects: T Technology > T Technology (General)
T Technology > TP Chemical technology > TP248 Nanogels. Nanoparticles.
Divisions: Faculty of Industrial Technology > Material & Metallurgical Engineering > (S1) Undergraduate Theses
Depositing User: Muhammad Hawary Assa
Date Deposited: 12 Feb 2018 02:48
Last Modified: 12 Feb 2018 02:48
URI: http://repository.its.ac.id/id/eprint/49250

Actions (login required)

View Item View Item