Analisis Pengaruh Waktu Deposisi Pada Proses PVD Terhadap Morfologi, Sifat Mekanik, Dan Antimicrobial Dari Lapisan Tipis Ag-TiO2

Kusumah, Pradita (2018) Analisis Pengaruh Waktu Deposisi Pada Proses PVD Terhadap Morfologi, Sifat Mekanik, Dan Antimicrobial Dari Lapisan Tipis Ag-TiO2. Undergraduate thesis, Institut Teknologi Sepuluh Nopember.

[img] Text
02511440000044-Undergraduate_Thesis.pdf - Published Version
Restricted to Repository staff only

Download (2MB) | Request a copy

Abstract

Dalam dunia medis, Stainless Steel 316L telah dikenal sebagai material utama dari banyak macam peralatan medik dan implant tulang dikarenakan memiliki ketahanan korosi yang baik, namun material ini tidak memiliki sifat antimicrobial sehingga bakteri masih dapat tumbuh di permukaannya. Sifat antimicrobial itu sendiri adalah kemampuan untuk menghambat pertumbuhan bakteri seperti yang dimiliki oleh beberapa logam seperti perak (Ag), tembaga (Cu) dan emas (Au). Namun ada juga senyawa yang merupakan titanium alloy yaitu titanium dioksida (TiO2) yang ternyata juga memiliki kemampuan antimicrobial. Oleh karena itu, pada penelitian ini digunakan material target berupa logam Ag dan material TiO2 yang dijadikan mozaic target pada proses pembentukan lapisan tipis menggunakan metode Physical Vapour Deposition RF Sputtering. Metode mozaik digunakan untuk menggabungkan kedua material tersebut sehingga terdeposit pada substrat SS316L. Variasi waktu deposisi yang digunakan yaitu 30, 40, 50 dan 60 menit yang kemudian dilakukan analisis pengaruhnya terhadap morfologi, mekanik dan antimicrobial dari lapisan tipis yang terbentuk. SEM-EDX, XRD, AFM, kekuatan adhesi, dan kemampuan antimicrobial secara in vitro dilakukan untuk karakterisasi lapisan tipis. Perbedaan waktu deposisi menyebabkan perbedaan ketebalan lapisan tipis Ag-TiO2 yang terdeposit ke permukaan substrat. Sampel dengan waktu deposisi 60 menit menghasilkan ketebalan lapisan yang paling tinggi karena banyaknya partikel Ag dan TiO2 yang terdeposit ke permukaan substrat. Semakin banyaknya partikel Ag yang terdeposit menyebabkan permukaan sampel semakin kasar dikarenakan terbentuknya aglomerat Ag pada permukaan sampel. Selain itu, dengan semakin banyaknya TiO2 yang terdeposit ke permukaan sampel menyebabkan naiknya sifat mekanik dari lapisan tipis. Kemampuan antimicrobial dari lapisan tipis juga semakin meningkat seiring dengan bertambahnya partikel Ag dan TiO2 pada permukaan substrat. Sehingga didapatkan kemampuan antimicrobial terbaik pada waktu deposisi 60 menit. ========== In the medical application, Stainless Steel 316L has been known as medical equipment and bone implants due to its good corrosion resistance, however this material does not have antimicrobial properties so that bacteria can still grow on the surface. The antimicrobial property is the ability to inhibit the growth of bacteria such as those possessed by some metals such as silver (Ag), copper (Cu) and gold (Au). But there is also a compound which is titanium alloy that is titanium dioxide (TiO2) which also has antimicrobial property. Therefore, Ag and TiO2 material are used as the target material in the formation process of thin film using Physical Vapor Deposition RF Sputtering method on SS 316L. The mozaic method is applied to deposit on the SS316L substrate. Deposition time variation was also applied in this study, which were 30, 40, 50 and 60 minutes to analyze the effect on the morphological, mechanical and antimicrobial of the thin layer formed. SEM-EDX, XRD, AFM, adhesion strength, and in vitro antimicrobial capability are performed for thin layer characterization. The time difference of the deposition causes the different thickness of Ag-TiO2 thin layer deposited onto the surface of the substrate. The thickest thin layer is in the sample with a 60-minutes deposition time which has the highest Ag-TiO2 particles on it. The more content of the deposited Ag causes the surface of the sample rougher due to agglomeration of Ag on the surface of the sample. Moreover, as more TiO2 is deposited onto the surface of the sample, the rise in mechanical properties of the thin film. In addition, the antimicrobial ability of the thin film also increases with the addition of the Ag and TiO2 particles. Thus, the best antimicrobial ability is with 60 minutes deposition time.

Item Type: Thesis (Undergraduate)
Uncontrolled Keywords: antimicrobial; SS 316L; logam Ag; TiO2, PVD RF Sputtering; plate
Subjects: Q Science > QR Microbiology
T Technology > T Technology (General)
T Technology > TA Engineering (General). Civil engineering (General) > TA491 Metal coating.
T Technology > TP Chemical technology > TP248 Nanogels. Nanoparticles.
Divisions: Faculty of Industrial Technology > Material & Metallurgical Engineering > (S1) Undergraduate Theses
Depositing User: Wardani Pradita Kusumah
Date Deposited: 06 Feb 2018 03:30
Last Modified: 06 Feb 2018 03:30
URI: http://repository.its.ac.id/id/eprint/49251

Actions (login required)

View Item View Item