Kusuma, Yoga Pradipta Angga (2020) REVIEW PENGARUH PARAMETER PROSES DEPOSISI HYDROXYAPATITE DENGAN METODE PVD RF SPUTTERING TERHADAP SIFAT LAPISAN TIPIS UNTUK APLIKASI ORTHOPAEDIC IMPLANT. Other thesis, Institut Teknologi Sepuluh Nopember.
Preview |
Text
02511640000024-Undergraduate_Thesis.pdf Download (2MB) | Preview |
Abstract
Material implan logam saat ini digunakan sebagai metode untuk mengatasi terjadinya kerusakan tulang atau menggantikan jaringan tulang yang telah rusak. Dalam penggunaannya implan logam kurang baik dalam membentuk ikatan yang kuat dengan sel tulang dan berpotensi unuk menimbulkan penolakan implan oleh tubuh. Untuk mengatasi hal tersebut maka salah satu metodenya adalah melakukan deposisi material hydroxyapatite pada permukaan substrat implan dengan metode PVD RF sputtering. Deposisi ini dilakukan untuk memperbaiki sifat biocompatibility dan osseointegrasi dari permukaan implan. Review paper ini bertujuan untuk menganalisis sifat lapisan tipis yang akan dihasilkan dari berbagai variasi parameter. Parameter deposisi yang digunakan adalah variasi RF power, variasi Bias Voltage, dan variasi waktu deposisi. Hasil perubahan variasi parameter yang dilakukan menunjukkan bahwa peningkatan RF power dapat meningkatkan growth rate dari proses deposisi dan meningkatkan nilai rasio Ca/P, Peningkatan bias voltage dapat memberikan pengaruh pada peningkatan nilai rasio Ca/P, menurunkan ukuran butir dan meningkatkan sudut kontak, dan peningkatan waktu deposisi dapat meningkatkan ketebalan dari lapisan dan biocompatibilitas.
===========================================================
Metal implant material is currently used as a method to overcome bone damage or replace damaged bone tissue. In its use metal implants are less good at forming strong bonds with bone cells and have the potential to cause rejection of implants by the body. To overcome this, one of the methods is deposition of hydroxyapatite material on the surface of the implant substrate using the RF sputtering PVD method. This deposition is done to improve the biocompatibility and osseointegration properties of the implant surface. The deposition process is carried out with a variety of parameter variations. This paper review purpose is to analyze the properties of the thin film that will result from a variety of parameter variations. Deposition parameters that used are RF power variations, Bias Voltage variations, and deposition time variations. The results of changes in parameter variations performed showed that RF power increases the growth rate of the deposition process and increases the value of the Ca / P ratio, increasing bias voltage gives an influence on increasing the value of the Ca / P ratio, decreases grain size and increases contact angle, and deposition time would increases the thickness of the coating and biocompatibility.
| Item Type: | Thesis (Other) |
|---|---|
| Uncontrolled Keywords: | PVD RF Sputtering, RF power, Bias, Deposition time,PVD RF Sputtering, RF power, Bias, Waktu deposisi |
| Subjects: | T Technology > T Technology (General) T Technology > TA Engineering (General). Civil engineering (General) > TA491 Metal coating. T Technology > TS Manufactures > TS695 Physical/Chemical vapor deposition |
| Divisions: | Faculty of Industrial Technology and Systems Engineering (INDSYS) > Material & Metallurgical Engineering > 28201-(S1) Undergraduate Thesis |
| Depositing User: | Yoga Pradipta Angga Kusuma |
| Date Deposited: | 11 Aug 2020 02:54 |
| Last Modified: | 04 Jun 2023 14:52 |
| URI: | http://repository.its.ac.id/id/eprint/77505 |
Actions (login required)
 |
View Item |