Analisis Pengaruh Perbandingan Luas Area Mosaik Target Pada Proses PVD Terhadap Morfologi, Sifat Mekanik Dan Antimicrobial Lapisan Tipis Ag-TiO2

Saputra, Airlangga Eka (2018) Analisis Pengaruh Perbandingan Luas Area Mosaik Target Pada Proses PVD Terhadap Morfologi, Sifat Mekanik Dan Antimicrobial Lapisan Tipis Ag-TiO2. Undergraduate thesis, Institut Teknologi Sepuluh Nopember.

[img]
Preview
Text
02511440000058-Undergraduate_Thesis.pdf - Accepted Version

Download (2MB) | Preview

Abstract

Material implan merupakan material yang ditanam di dalam jaringan tubuh manusia untuk tujuan tertentu. Kesterilan material implan menjadi perhatian utama dalam penggunaannya. Sudah banyak metode untuk mensterilkan material implan. Namun, tidak sedikit jumlah kegagalan seperti infeksi pada saat penggunaannya. Infeksi bakteri saat dan setelah proses implantasi pada alat medis merupakan komplikasi yang biasa terjadi pada operasi orthopedik. Stainless Steel 316L biasa digunakan sebagai bahan implan karena memiliki ketahanan korosi yang kuat, akan tetapi material ini kurang mampu menghambat pertumbuhan bakteri pada permukaannya, sehingga tidak memiliki sifat antimicrobial. Oleh karena itu dibutuhkan bahan yang memiliki sifat antimicrobial untuk dilapiskan pada permukaan bahan tersebut. Pada penelitian ini, logam dengan sifat antimicrobial yaitu perak (Ag) dan titanium dioksida (TiO2) dijadikan material target yang dipasang pada katoda dalam proses pembentukan lapisan tipis dengan metode Physical Vapour Deposition (PVD). Variasi perbandingan luas area target Ag:TiO2 (20:80, 35:65, 50:50, 65:35) dengan metode mosaik dilakukan untuk menganalisis pengaruhnya terhadap morfologi, sifat mekanik dan antimicrobial lapisan tipis. SEM-EDX, XRD, AFM, Rockwell C, dan kemampuan antimicrobial secara in vitro dilakukan untuk karakterisasi lapisan tipis. Pada penelitian ini telah dibuktikan bahwa pengaruh perbandingan luas area target Ag-TiO2 menyebabkan adanya perubahan komposisi pada lapisan Ag-TiO2. Kandungan Ag paling banyak yaitu sebesar 96,58% terdapat pada sampel dengan luas area target Ag:TiO2 (65:35). Semakin banyak kandungan Ag pada lapisan tipis akan meningkatkan kemampuan antimicrobial dari lapisan tersebut. Sebaliknya, sifat mekanik dari lapisan tipis akan menurun seiring dengan bertambahnya kandungan Ag. ======================================================================================================== Implant material is a material planted in the human body for a spesific purpose. The sterility of implant material is the main concern. There are many methods for sterilizing implant materials. However, many failures such as infection still occured. Bacterial infections during and after implantation of the medical device are common complications of orthopedic surgery. Stainless Steel 316L is commonly used as an implant material because it has strong corrosion resistance, but this material is less able to inhibit the growth of bacteria on its surface, so it has no antimicrobial properties. Therefore, it is necessary to coat the surface with material that has good antimicrobial properties. In this study, metals with antimicrobial properties such as silver (Ag) and titanium dioxide (TiO2) were deposited to a thin film formation process by Physical Vapor Deposition (PVD) method. The variation of the target surface area ratio of Ag to TiO2 (20:80, 35:65, 50:50, 65:35) by mosaic method was carried out to analyze its effect on the morfological, mechanical and antimicrobial properties of thin film. SEM-EDX, XRD, AFM, Rockwell C, and in vitro antimicrobial capabilities were performed for thin layer

Item Type: Thesis (Undergraduate)
Additional Information: RSMt 671.735 Sap a-1 3100018074233
Uncontrolled Keywords: Material Implan; Antimicrobial; Lapisan Tipis; Physical Vapour Deposition; Metode Mosaik; Implant Material; Antimicrobial; Thin Layer; Physical Vapor Deposition; Mosaic Method.
Subjects: Q Science > QR Microbiology
R Medicine > RB Pathology
T Technology > TA Engineering (General). Civil engineering (General) > TA491 Metal coating.
T Technology > TS Manufactures > TS695 Physical/Chemical vapor deposition
Divisions: Faculty of Industrial Technology > Material & Metallurgical Engineering > 28201-(S1) Undergraduate Thesis
Depositing User: Saputra Airlangga Eka
Date Deposited: 06 Feb 2018 03:09
Last Modified: 28 Apr 2020 00:46
URI: https://repository.its.ac.id/id/eprint/49247

Actions (login required)

View Item View Item